低溫等離子體具體操作規(guī)程：

      1.打開供氣鋼瓶總閥門，并將出口壓力通過減壓閥調(diào)節(jié)到合適值（一般在1-3公斤之間）。
      2.打開反應(yīng)腔門，取出樣品板。
      3.將待處理樣品置于樣品板之上。
      4.將樣品板水平推入到位，關(guān)閉反應(yīng)腔門。
      5.開啟總電源開關(guān)，等待觸摸屏啟動完畢。
      6.參數(shù)設(shè)定及程序選擇。
      7.手動時按實(shí)驗人員的意向進(jìn)行操作。
      8.自動時，按下“啟動”按鈕，設(shè)備自動開始處理過程，當(dāng)處理過程結(jié)束后，自動進(jìn)入到提醒頁面，按“確認(rèn)”后回到主頁面，等待再次進(jìn)行實(shí)驗。同時蜂鳴器鳴響，提醒操作人員實(shí)驗已經(jīng)完成。10秒中后蜂鳴器自動關(guān)閉。
      9.打開反應(yīng)腔門，將樣品取出。
      10.再次重復(fù)以上2-8 步驟。

      11.全部實(shí)驗結(jié)束后，關(guān)閉總電源。

      低溫等離子體安(全)注意事項：
      1.低溫等離子體表面處理設(shè)備為高壓設(shè)備，無專(業(yè))知識人員請勿打開機(jī)箱維護(hù)設(shè)備。
      2.噴嘴與主機(jī)在沒有在廠家技術(shù)人員的指導(dǎo)下不能隨意拆裝。
      3.主機(jī)的地線一定要可靠接（大地）地線。
      4.給設(shè)備提供的氣源水份一定要過濾干凈，無氣或氣源流量不足時，設(shè)備禁止開啟； 在確保氣源干燥情況下設(shè)備正常運(yùn)行。
      5.噴頭與主機(jī)間的高壓電纜走線要自然，角度彎曲>90度。
      6.注意保護(hù)高壓電纜，防止銳器劃割傷高壓電纜的硅膠。
      7.主機(jī)內(nèi)的風(fēng)扇、高壓變壓器等每 6 個月用刷子清(除)其表面的灰塵，環(huán)境惡劣的每 個月清(除)其表面的灰塵。
      8.勿在有易燃易爆的氣體環(huán)境中使用。
      9.人體勿觸摸射流等離子體焰。
      10.噴頭噴出的低溫等離子焰請使用中間橘黃色區(qū)域，即離噴嘴 3.5mm～8mm 區(qū)域。
      低溫等離子體的電子能量一般約為幾個到幾十個電子伏特，高于聚合物中常見的化學(xué)鍵能因此，等離子體可以有足夠的能量引起聚合物內(nèi)的各種化學(xué)鍵發(fā)生斷裂或重組。表現(xiàn)在大分子的降解，材料表面和外來氣體、單體在等離子體作用下發(fā)生反應(yīng)。近年來，等離子體表面改性技術(shù)在醫(yī)用材料改性上的應(yīng)用已成為等離子體技術(shù)的一個研究熱點(diǎn)。低溫等離子處理分為等離子體聚合和等離子體表面處理。等離子體聚合是利用放電把有(機(jī))類氣態(tài)單體等離子化，使其產(chǎn)生各類活性物質(zhì)，由這些活性物質(zhì)之間或活性物質(zhì)與單體之問進(jìn)行加成反應(yīng)形成聚合膜。而等離子體表面處理是利用非聚合性無機(jī)氣體(Ar2、N2、H2、O2等)的等離子體進(jìn)行表面反應(yīng)，通過表面反應(yīng)在表面引入特定官能團(tuán)，產(chǎn)生表面侵蝕，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)層或生成表面自由基，在經(jīng)等離子體活(化)而成的表面自由基位置，能進(jìn)一步反應(yīng)產(chǎn)生特定官能團(tuán)，如氫過氧化物。較為普遍的是在高分子材料表面導(dǎo)人含氧官能團(tuán)。如-OH、-OOH等。還有人在材料表面引入了胺基。在材料表面生成自由基或引入官能團(tuán)后，就可與其他高分子單體反應(yīng)進(jìn)行接枝(即材料表面形成的自由基或官能團(tuán)引發(fā)單體分子與之發(fā)生作用)或聚合，或直接在材料表面固定生物活性分子。在低溫等離子中由于存在離子和自由電子、自由基，其提供了常規(guī)化學(xué)反應(yīng)器中所沒有的化學(xué)反應(yīng)條件，既能使原氣體中的分子分解，又可以使許多有(機(jī))物單體產(chǎn)生聚合反應(yīng)。等離子體聚合可提供超薄、均勻、耐磨的連續(xù)薄膜，而且具有較好的粘附性，其他性能也優(yōu)于化學(xué)法制備的聚合膜。