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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

首飾鍍膜前用誠峰等離子清洗技術(shù)

首飾鍍膜前用誠峰等離子清洗技術(shù):
       手表表盤應(yīng)粘在手表框架上。如果等離子清洗技術(shù)在手表表盤粘接前進(jìn)行,去除框架和表盤表面的原有污染物質(zhì),激發(fā)表層活性,會(huì)減少膠粘成本費(fèi)用,使表盤粘接更牢固。如果不使用等離子體清洗,膠粘的價(jià)格會(huì)更高,甚至可能導(dǎo)致粘接不牢固。

等離子清洗技術(shù)


       為了達(dá)到所需的達(dá)到所需的顏色效果,提高耐磨壽命。表盤涂層前需要等離子體清洗,去除表盤表面的原有污染物質(zhì),激發(fā)表層活性,使涂層粘附更牢固。如果不適用于等離子體清洗,表盤涂層的成品率可能會(huì)減少,膜的使用壽命可能會(huì)縮短。
       在珠寶方面,許多珠寶需要涂層和粘結(jié),在涂層和粘結(jié)前使用等離子體表面清洗處理,將提高原材料的表面張力值,可去除酸洗或其他工藝,既環(huán)保又經(jīng)濟(jì),同時(shí)使涂層和粘結(jié)更牢固、更光滑、更美觀。
       等離子清洗技術(shù)是一種新型的高科技技術(shù),利用等離子體達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài),也被稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài),不屬于常見的固液氣體三種狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量,使其分離成為等離子體狀態(tài)。等離子體的活性成分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)狀態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。如果在等離子體清洗機(jī)的放電氣體中引入反應(yīng)性氣體,則復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)引入碳?xì)浠衔铩被?、羧基等新的官能組,這些都是活性組,可以顯著提高材料的表層活性。

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誠峰智造——專注等離子研發(fā)20年