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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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這四個(gè)方面區(qū)分了大氣與真空的應(yīng)用領(lǐng)域

大氣plasma等離子清洗機(jī)與真空plasma等離子清洗機(jī)的區(qū)別如下:
1.清洗方式不同
    大氣plasma等離子清洗機(jī)的噴嘴中是直噴出的離子,這種情況由噴嘴的結(jié)構(gòu)間接的改變了離子的運(yùn)動(dòng)方向(直接面對(duì)被處理材料)。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個(gè)表面。
    真空plasma等離子清洗機(jī)在工作中,腔體內(nèi)部的離子是不定向的,只要材料在腔體裸露出的部分,不管是哪個(gè)面哪個(gè)角落都可以清洗得到。
2.使用氣體方面不同
    大氣plasma等離子清洗機(jī)工作時(shí)只需要接入壓縮空氣,當(dāng)然想效(果)更好可直接接入氮?dú)?。大氣plasma等離子清洗機(jī)通入氣體的目的主要是為了活(化),侵潤(rùn)性增強(qiáng)。在應(yīng)用方面比較有局限。
3.使用溫度不同
    大氣plasma等離子清洗機(jī)雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右,但這個(gè)數(shù)據(jù)是按照噴槍距離材料15mm,功率在500W,配合在三軸速度為120mm/s來(lái)測(cè)的。當(dāng)然功率,接觸時(shí)間,處理的高度都會(huì)對(duì)溫度有所影響。特別注意的是:大氣plasma等離子清洗機(jī)噴槍工作時(shí)的噴出的“火焰”分為內(nèi)焰和外焰,我們清洗時(shí)都是拿外焰去洗,內(nèi)焰在噴嘴里面,從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長(zhǎng)時(shí)間對(duì)著某一個(gè)點(diǎn)不運(yùn)動(dòng)進(jìn)行處理很容易對(duì)表面產(chǎn)生灼燒。所以大氣等離子的溫度要在實(shí)際工況下才能測(cè)得具體數(shù)值。
    真空plasma型等離子清洗機(jī)就沒(méi)那么復(fù)雜,按電源頻率劃分,40KHz和13.56MHz為例:通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作,頻率為40KHz一般溫度為65°以下,再者機(jī)器內(nèi)部裝有強(qiáng)冷風(fēng)扇,處理時(shí)間不長(zhǎng)的話(huà),材料表面溫度都會(huì)跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會(huì)更低,通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發(fā)生形變的材料,真空plasma型等離子清洗機(jī)的是在再適合不過(guò)了。
4.離子產(chǎn)生條件不同
    大氣plasma等離子清洗機(jī)依賴(lài)接入氣體,氣體壓力要達(dá)到0.2mpa左右才可以產(chǎn)生離子。
    真空plasma型等離子清洗機(jī)則依賴(lài)于真空泵,產(chǎn)生離子之前,即使不接入任(何)外接氣體,要將腔體內(nèi)部的真空度抽到25pa以下才能產(chǎn)生離子。

    真空plasma等離子清洗機(jī)在氣體上會(huì)有更多的選擇,并且可以選擇多種氣體進(jìn)行匹配對(duì)材料表面氧化物、納(米)級(jí)別微生物的去除有著極強(qiáng)的改善。真空plasma等離子清洗機(jī)通入氣體的目的是為了增強(qiáng)蝕刻效(果),去除污染物,去除有(機(jī))物,侵潤(rùn)性增強(qiáng)等。顯然氣體的選擇范圍更廣,真空plasma等離子清洗的工藝會(huì)應(yīng)用更為廣泛。

plasma等離子清洗機(jī)

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