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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

應(yīng)用于LED-等離子清洗裝置怎么樣

       由于人們對(duì)能源的要求越來越高,發(fā)光二極管以其高效、環(huán)保、安全等優(yōu)點(diǎn)發(fā)展迅速。然而,發(fā)光二極管封裝過程中的污物一直是其發(fā)展的瓶頸。支架和集成ic表層的氧化物和顆粒污物會(huì)降低產(chǎn)品質(zhì)量。在封裝過程中進(jìn)行等離子清洗裝置能夠有效去除污物,在支架電鍍前進(jìn)行等離子清洗,能夠有效去除污物,在支架電鍍前進(jìn)行等離子清洗。

等離子清洗裝置

       等離子清洗裝置又稱第四狀態(tài),由原子、分子、受刺激狀態(tài)的原子、分子、自由電子、正負(fù)離子、原子團(tuán)和光子構(gòu)成,客觀上是中性的。等離子體中的點(diǎn)狀顆粒能夠通過物理或化學(xué)作用去除部件表層的污物,進(jìn)而提升部件表層的活性。去除污物主要有有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微粒污物等。
1.在點(diǎn)膠之前進(jìn)行等離子清洗裝置處理
       點(diǎn)膠的目的是連接集成ic和支架,但由于底板上的污物會(huì)導(dǎo)致銀膠呈球形,不利于集成ic的粘貼,容易造成手工貼片的損壞。等離子處理后,支架表層的粗糙度和親水性能夠大大提高,有利于銀膠的鋪設(shè)和集成ic的粘貼。
2.在接引線之前用等離子清洗裝置
       引線鍵就是將集成ic正、負(fù)極連接到支架的正負(fù)極,起到連接作用。在襯底上粘貼集成ic_,經(jīng)高溫固化后,其中的污物可能含有顆粒和氧化物,造成引線與集成ic和支架之間的焊接不良或粘接不良。引線連接前進(jìn)行plasma處理能夠明顯提高其表面活性,進(jìn)而提升鍵合引線連接強(qiáng)度和拉力的均勻性。并且鍵合刀頭遇到污物時(shí)。
滲透到污物的表層,需要更大的力度,等離子清洗裝置清洗后可降低這一力度,甚至鍵合時(shí)產(chǎn)生的溫度也可以降低。
3.在發(fā)光二極管封裝之前進(jìn)行等離子清洗裝置
        粘合劑就是將粘合劑灌入粘合劑,其作用不僅在于保護(hù)集成ic,而且能提升發(fā)光率。但是,由于污物的存在,在LED注入環(huán)氧膠過程中,會(huì)引起氣泡的發(fā)泡率過高,進(jìn)而影響產(chǎn)品質(zhì)量和壽命。等離子清洗裝置清洗后,集成ic與硅片更為緊密,與膠體溶液融合,能夠大幅度降低氣泡,顯著提升散熱和折射率;
4.電鍍前等離子清洗裝置處理
       電鍍?nèi)盏脑诨纳襄兩弦粚咏饘賹樱淖兤浔韺有再|(zhì)或尺寸。但是,在實(shí)際操作過程中往往會(huì)出現(xiàn)密封性差,出現(xiàn)脫模?;蛘呤敲芊庑圆缓?,導(dǎo)致鍍層表層粗糙、均一性差。經(jīng)等離子處理后,能夠有效地改善這一現(xiàn)象,使鍍層更為完美。
       近幾年來,由于半導(dǎo)體光電子技術(shù)的發(fā)展,LED效率迅速提升,預(yù)示著一個(gè)新光源時(shí)代的來臨。在技術(shù)潛力及發(fā)展趨勢(shì)上,LED光源的發(fā)光效率可達(dá)4001m/w以上。并將等離子清洗裝置工藝應(yīng)用于LED封裝封裝,具有良好的清潔均勻性、可控性、三維處理能力及有方向性選擇加工等特點(diǎn),必將推動(dòng)LED產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

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